氧化层是半导体器件的核心组成部分，是先进集成电路制造的关键技术。氧化层中缺陷的微观性质是影响半导体器件性能调控和可靠性退化的关键因素。本数据库通过大规模高通量计算探索常见半导体器件中氧化层电缺陷物理性质的“基因谱”，为微电子氧化层缺陷的精确测量和表征提供支持。